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          產品中心

          當前位置:首頁產品中心材料科學檢測設備沈陽科學儀器PVD500沈陽科儀高真空磁控濺射薄膜沉積系統
          沈陽科儀高真空磁控濺射薄膜沉積系統

          產品簡介

          沈陽科儀高真空磁控濺射薄膜沉積系統--PVD500

          真空室結構:方形前開門

          真空室尺寸:p500x500x500mm

          極限真空度:≤3.0E-5Pa

          沉積源:永磁靶4套,2英寸

          樣品尺寸,溫度:p4英寸,1片,最高800°C

          占地面積(長x寬x高):約2米x1.7米x2米

          電控描述:全自動

          工藝:片內膜厚均勻性:≤3%

          產品型號:PVD500
          更新時間:2026-01-08
          廠商性質:經銷商
          訪問量:771
          詳細介紹在線留言

          高真空磁控濺射薄膜沉積系統--PVD500

          真空室結構:方形前開門

          真空室尺寸:p500x500x500mm

          極限真空度:≤3.0E-5Pa

          沉積源:永磁靶4套,2英寸

          樣品尺寸,溫度:p4英寸,1片,最高800°C

          占地面積(長x寬x高):約2米x1.7米x2米

          電控描述:全自動

          工藝:片內膜厚均勻性:≤3%

          特色參數:

          產品概述:
          本沉積系統可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質保護薄膜和裝飾薄膜等,工藝性能穩定、模塊化結構,采用行業的軟件控制系統。

          設備特點:

          本設備是一個鍍膜平臺,可把磁控靶拆下換電子槍成為電子束鍍膜系統、或換蒸發源作為熱蒸發系統、或換上離子槍作為離子束鍍膜系統等。
          設備用途:
          用于納米級單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備。可廣泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研項目



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