高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)

產(chǎn)品簡介
本沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu)，采用行業(yè)專業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。
設(shè)備用途：
用于納米級單層及多層功能膜、硬質(zhì)膜、金屬膜、半導(dǎo)體膜、介質(zhì)膜等新型薄膜材料的制備。可廣泛應(yīng)用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研項目。

Name: 高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)PVD400
Brand: 沈陽科儀
Price: 面議 CNY
Availability: InStock

產(chǎn)品型號：PVD400

更新時間：2026-01-19

廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商

訪問量：90

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產(chǎn)品概述：
本沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu)，采用行業(yè)專業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。

設(shè)備用途：
用于納米級單層及多層功能膜、硬質(zhì)膜、金屬膜、半導(dǎo)體膜、介質(zhì)膜等新型薄膜材料的制備。可廣泛應(yīng)用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研項目。

產(chǎn)品參數(shù)：

真空室結(jié)構(gòu):方形前開門

真空室尺寸:φ400x400x400mm

極限真空度:≤6.6E-5Pa

沉積源:永磁靶3套，φ2英寸

樣品尺寸，溫度:φ4英寸，1片，800℃
占地面積（長x寬x高）:約1.8米×1.7米×2米

電控描述:全自動

工藝:片內(nèi)膜厚均勻性：≤±3%

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